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当前位置：首页 / 产品中心 / PTFE聚四氟乙烯系列产品 / 四氟过滤器 / RNKW-PTFEMC-47mmPTFE膜池47mm四氟过滤器耐酸碱洁净度高
产品简介
PTFE膜池47mm四氟过滤器耐酸碱洁净度高PTFE膜池产品名称：PTFE膜池（过滤器）直径：47mm、90mm（尺寸可定制）货号：RNKW-PTFEMC-47mm厂家：南京瑞尼克
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2024-07-232022-07-132025-06-112021-05-06| 品牌 | 南京瑞尼克 | 货号 | RNKW-PTFEMC-47mm |
|---|---|---|---|
| 规格 | 47mm 90mm等可定制 | 供货周期 | 一周 |
| 主要用途 | 超纯水,光刻胶等高纯度化学品过滤 | 耐酸碱 | 强酸强碱有机溶剂 |
| 洁净度 | 金属离子溶出析出低 | 定制 | 尺寸，款式均可根据实验室需求定制加工 |
| 应用行业 | 半导体，化工，电子材料等 |
PTFE膜池47mm四氟过滤器耐酸碱洁净度高
PTFE膜池
产品名称：PTFE膜池（过滤器）
直径：47mm、90mm（尺寸可定制）
货号：RNKW-PTFEMC-47mm
厂家：南京瑞尼克
PTFE膜池过滤器是一种高性能的精密过滤设备，其整体都是由聚四氟乙烯材质制成，保证洁净度无污染，这种膜材具有独特的物理和化学特性，使得PTFE过滤器成为处理高纯度、高腐蚀性、高温流体的理想选择。
材质特性
化学相容性
耐受所有强酸、强碱、强氧化剂和有机溶剂，这使得它在处理苛刻化学液体时。
耐温性
-200°C至+260°C
金属离子低溶出析出
膜材本身极其纯净，不易释放任何粒子或离子，是保证下游流体纯度的关键。
应用领域
1. 半导体制造领域
光刻环节（Lithography）：
光刻胶（Photoresist）过滤： 过滤去除光刻胶中的颗粒，防止在晶圆上形成缺陷。
超纯水（UPW）终端过滤： 在化学机械抛光（CMP）后的清洗步骤中，确保步冲洗水的洁净。
湿法刻蚀与清洗（Wet Etch & Clean）：
高纯度化学品过滤： 过滤（HF）、硫酸（H₂SO₄）、双氧水（H₂O₂）、氨水（NH₄OH）等超高纯工艺化学品中的颗粒和凝胶，防止晶圆污染和刻蚀不均匀。
化学品回收系统： 在废酸回收纯化过程中，过滤杂质。
2.化工与医药化工领域
强腐蚀性介质过滤：
过滤浓硫酸、盐酸、王水、氯碱等，用于催化剂回收、产品纯化。
溶剂过滤与回收：
在原料药（API）生产中，过滤各种有机溶剂（如DMSO，DMF，丙酮），去除颗粒和微生物（使用亲水性膜进行除菌过滤）。
3. 电子材料领域
液晶显示（LCD/OLED）：
过滤ITO蚀刻液、剥离液、显影液等高纯度化学品。
彩色滤光片制程中光阻剂的过滤。
锂离子电池：
电解液（Lithium-ion Battery Electrolyte）的精密过滤： 去除电解液中的水分、颗粒和金属杂质，对提升电池一致性、安全性和循环寿命至关重要。
电极浆料过滤： 在涂布前过滤正负极浆料，防止大的团聚物导致涂布缺陷。
光伏产业：
过滤制绒、刻蚀、去PSG等工序中使用的酸、碱化学品。
硅片切割液（Slurry）的回收与过滤。
PTFE膜池47mm四氟过滤器耐酸碱洁净度高
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