高纯PFA方槽适配半导体湿法清洗、化工药液储存

高纯 PFA 方槽（也称 PFA 清洗槽、PFA 酸缸），采用半导体级高纯全氟烷氧基树脂（PFA） 一体成型加工，半透明可视，低离子析出、耐强腐蚀，核心适配半导体湿法清洗制程、高纯化工药液储存、晶圆浸泡、器皿酸洗等高洁净工况，是无尘车间、湿制程产线的核心配套槽体。

核心材质与性能优势

超高洁净，杜绝二次污染 采用高纯原生 PFA 原料，金属元素本底值极低，低溶出、低颗粒释放，满足 ppt/ppb 级痕量管控，符合半导体 SEMI 洁净标准，避免晶圆、高纯药液被金属离子污染。

优异化学惰性，耐强腐蚀 耐受 HF、硝酸、盐酸、王水、强碱及各类有机溶剂，不与腐蚀性清洗药液发生反应，适配 SC1、SC2 标准清洗液长期使用。

宽温域稳定使用 长期适用温度 -200℃ ~ +260℃，高温酸洗、低温储液工况均可保持结构稳定，不易软化、脆化变形。

一体成型工艺 整体无焊缝，密封性佳，杜绝渗漏；内壁光滑、圆弧边角，不易挂壁残留，便于清洗，降低交叉污染风险；半透明槽体，可直观观察液位与工件状态。

可选定制化加工 长宽高、壁厚按需定制，可配套同材质密封盖板、导流口、手提位、底部加强筋；支持开模非标尺寸，适配量产产线与实验室小样工艺。

应用场景

半导体行业（湿法清洗核心）

硅晶圆、芯片基板湿法浸泡、酸洗、氧化层去除

晶圆载具、石英件、陶瓷配件酸浴清洗

湿制程高纯试剂暂存、超纯水储存

半导体实验室痕量分析器皿浸泡

精细化工行业

高纯腐蚀性药液存储、静置反应

电子化学品配制、浸泡提纯

强腐蚀试剂周转、废液暂存

图片